logo BPŁ logo PŁ

Bibliografia Dorobku Piśmienniczego Pracowników Politechniki Łódzkiej od 2004




Zapytanie: THIN SOLID FILMS
Liczba odnalezionych rekordów: 17



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetl/ukryj etykiety | Wersja do druku | | | Nowe wyszukiwanie
1/17
Nr opisu: 0000044548
Autorzy: Ewa Dobruchowska, Tomasz Marszałek, Jacek Ulański.
Tytuł: Anisotropic perylenediimide/polycarbonate composites produced by a single batch solution based method.
Czasopismo: Thin Solid Films 2014 Vol.564 s.361-366
p-ISSN: 0040-6090
e-ISSN: 1879-2731

Uwagi wewnętrzne: DIG_044548. Science Direct. Compendex. Scopus.
Zasięg czasopisma: M
Kraj: CHE
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej, wskaźnik Impact Factor ISI: 1.759
Punktacja MNiSW: 30.000
Praca afiliowana przez PŁ
DOI:
2/17
Nr opisu: 0000039316
Autorzy: Łukasz Kaczmarek, Karol Kyzioł, Jacek Sawicki, Mariusz Stegliński, Hanna Radziszewska, Witold Szymański, Łukasz Kołodziejczyk, Radomir Atraszkiewicz, Daniel Kottfer, Piotr Zawadzki.
Tytuł: The influence of chemical groups on the mechanical properties of SiCNH coatings deposited on 7075 aluminium alloy.
Czasopismo: Thin Solid Films 2013 Vol.534 s.15-21
p-ISSN: 0040-6090

Uwagi wewnętrzne: DIG_039316. Science Direct. Compendex. Scopus.
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 1
Kraj: CHE
Kod współpracy międzynarodowej: SVK
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej, wskaźnik Impact Factor ISI: 1.867
Punktacja MNiSW: 30.000
Praca afiliowana przez PŁ
Adres url:
DOI:
3/17
Nr opisu: 0000024084
Autorzy: Michał Wiatrowski, Ewa Dobruchowska, Waldemar Maniukiewicz, Ulrich Pietsch, Jacek Kowalski, Zbigniew Szamel, Jacek Ulański.
Tytuł: Self-assembly of perylenediimide based semiconductor on polymer substrate.
Czasopismo: Thin Solid Films 2010 Vol.518 nr 8 s.2266-2270
p-ISSN: 0040-6090

Uwagi wewnętrzne: DIG_024084. Science Direct. Compendex. Scopus.
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 1
Kraj: CHE
Kod współpracy międzynarodowej: DEU
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej, wskaźnik Impact Factor ISI: 1.935
Punktacja MNiSW: 32.000
Praca afiliowana przez PŁ
4/17
Nr opisu: 0000022074
Autorzy: Anna Sobczyk-Guzenda, Maciej Gazicki-Lipman, Hieronim Szymanowski, Jacek Kowalski, Piotr Wojciechowski, Tomasz Halamus, Adam Tracz.
Tytuł: Characterization of thin TiO2 films prepared by plasma enhanced chemical vapour deposition for optical and photocatalytic applications.
Czasopismo: Thin Solid Films 2009 Vol.517 nr 18 s.5409-5414
p-ISSN: 0040-6090

Uwagi wewnętrzne: DIG_022074. Science Direct. Compendex. Scopus.
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 2
Kraj: CHE
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej
Punktacja MNiSW: 32.000
5/17
Nr opisu: 0000024678
Autorzy: Mariusz Dudek, A. Amassian, O. Zabeida, Jolanta E. Klemberg-Sapieha, Ludvik Martinu.
Tytuł: Ion bombardment-induced enhancement of the properties of indium tin oxide films prepared by plasma-assisted reactive magnetron sputtering.
Czasopismo: Thin Solid Films 2009 Vol.517 nr 16
p-ISSN: 0040-6090

Uwagi wewnętrzne: DIG_024678. Science Direct. Compendex. Scopus.
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 1
Kraj: CHE
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej
Punktacja MNiSW: 32.000
6/17
Nr opisu: 0000021303
Autorzy: Tomasz Martyński, Robert Hertmanowski, Roland Stolarski, Danuta Bauman.
Tytuł: Aggregates formation by perylene-like dyes in Langmuir-Blodgett films.
Czasopismo: Thin Solid Films 2008 Vol.516 nr 24 s.8834-8838
p-ISSN: 0040-6090

Uwagi wewnętrzne: DIG_021303. Science Direct.
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 2
Kraj: CHE
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej, wskaźnik Impact Factor ISI: 1.884
Punktacja MNiSW: 24.000
7/17
Nr opisu: 0000016106
Autorzy: Andrzej Rybak, Wojciech Pisula, Jarosław Jung, Jacek Ulański.
Tytuł: Influence of molecular order on charge carrier photogeneration in perylene derivative layer.
Czasopismo: Thin Solid Films 2008 Vol.516 nr 12 s.4201-4207
p-ISSN: 0040-6090

Uwagi wewnętrzne: DIG_016106. Science Direct. Compendex. Scopus.
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 1
Kraj: CHE
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej, wskaźnik Impact Factor ISI: 1.884
Punktacja MNiSW: 24.000
8/17
Nr opisu: 0000012581
Autorzy: Hieronim Szymanowski, Anna Sobczyk-Guzenda, Adam Rylski, Witold Jakubowski, Maciej Gazicki-Lipman, Uwe Herberth, Fethi Olcaytung.
Tytuł: Photo-induced properties of thin TiO2 films deposited using the radio frequency plasma enhanced chemical vapor deposition method.
Czasopismo: Thin Solid Films 2007 Vol.515 nr 13 s.5275-5281
p-ISSN: 0040-6090

Uwagi wewnętrzne: DIG_012581. Science Direct. EBSCO. Scopus. Compendex.
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 1
Kraj: CHE
Kod współpracy międzynarodowej: DEU
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej
9/17
Nr opisu: 0000013223
Autorzy: Jacek Tyczkowski, Ryszard Kapica, J. Łojewska.
Tytuł: Thin cobalt oxide films for catalysis deposited by plasma-enhanced metal-organic chemical vapor deposition.
Czasopismo: Thin Solid Films 2007 Vol.515 nr 16 spec. iss. s.6590-6595
p-ISSN: 0040-6090

Uwagi wewnętrzne: DIG_013223. Science Direct. EBSCO. Compendex. Scopus.
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 1
Kraj: CHE
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej
10/17
Nr opisu: 0000005127
Autorzy: Piotr Kazimierski.
Tytuł: Mesostructured thin films deposited by PECVD from TMGe.
Czasopismo: Thin Solid Films 2006 Vol.495 nr 1-2 s.144-148
Uwagi:EMRS 2005. Symposium E Synthesis, Characterization and Applications of Mesostructured Thin Layers.
p-ISSN: 0040-6090

Uwagi wewnętrzne: DIG_005127. Science Direct. EBSCO. Compendex. Scopus.
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 1
Kraj: CHE
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej
11/17
Nr opisu: 0000006210
Autorzy: I. Błaszczyk-Łężak, A.M. Wróbel, Dariusz Bieliński.
Tytuł: Remote nitrogen microwave plasma chemical vapor deposition from a tetramethyldisilazane precursor. 2. Properties of deposited silicon carbonitride films.
Czasopismo: Thin Solid Films 2006 Vol.497 nr 1-2 s.35-41
p-ISSN: 0040-6090

Uwagi wewnętrzne: DIG_006210. Science Direct. EBSCO. Scopus.
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 1
Kraj: CHE
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej
12/17
Nr opisu: 0000009508
Autorzy: Jacek Tyczkowski.
Tytuł: The role of ion bombardment process in the formation of insulating and semiconducting plasma deposited carbon-based films.
Czasopismo: Thin Solid Films 2006 Vol.515 nr 4 s.1922-1927
p-ISSN: 0040-6090

Uwagi wewnętrzne: DIG_009508. Science Direct. EBSCO. Scopus. Compendex.
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 2
Kraj: CHE
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej
13/17
Nr opisu: 0000012890
Autorzy: J.-P. Masse, Hieronim Szymanowski, O. Zabeida, A. Amassian, Jolanta Ewa Klemberg-Sapieha, Ludvik Martinu.
Tytuł: Stability and effect of annealing on the optical properties of plasma-deposited Ta2O5 and Nb2O5 films.
Czasopismo: Thin Solid Films 2006 Vol.515 nr 4 s.1674-1682
p-ISSN: 0040-6090

Uwagi wewnętrzne: DIG_012890. Science Direct.
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 2
Kraj: CHE
Kod współpracy międzynarodowej: CAN
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej
14/17
Nr opisu: 0000000634
Autorzy: Bogdan Wendler, Marek Danielewski, Jarosław Dąbek, Adam Rylski, Robert Filipek.
Tytuł: Modern refractory AlMo and AlMoSi coatings on steels with diffusion barrier.
Czasopismo: Thin Solid Films 2004 Vol.459 nr 1-2 s.178-182
forma: odb.
Uwagi:Proceedings of the 8th European Vacuum Congress Berlin 2003, 23-26 June 2003, featuring the 8th European Vacuum Conference and 2nd Annual Conference of the German Vacuum Society.
Lokalizacja dokumentu: Wł. Inst. Inż. Mater.
p-ISSN: 0040-6090

Uwagi wewnętrzne: DIG_000634
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 2
Kraj: CHE
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej
15/17
Nr opisu: 0000004396
Autorzy: Aleksander Werbowy, Andrzej Olszyna, Krzysztof Zdunek, Aleksandra Sokołowska, Jan Szmidt, Adam Barcz.
Tytuł: Peculiarities of thin film deposition by means of reactive impulse plasma assisted chemical vapor deposition (RIPACVD) method.
Czasopismo: Thin Solid Films 2004 Vol.459 nr 1-2 s.160-164
p-ISSN: 0040-6090

Uwagi wewnętrzne: DIG_004396. Science Direct.
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 2
Kraj: CHE
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej
16/17
Nr opisu: 0000004395
Autorzy: O.P. Dmytrenko, N.P. Kulish, Yu.I. Prylutskyy, E.M. Sphilevskiy, N.M. Belyi, V.A. Gubanov, M. Hietschold, S. Schulze, Jacek Ulański, Roman Wojciechowski, Marcin Kozanecki, P. Scharff.
Tytuł: Raman spectra and structure of thin Cu-C60 films.
Czasopismo: Thin Solid Films 2004 Vol.459 nr 1-2 s.254-257
p-ISSN: 0040-6090

Uwagi wewnętrzne: DIG_004395. Science Direct.
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 2
Kraj: CHE
Kod współpracy międzynarodowej: UKR, BLR, DEU
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej
17/17
Nr opisu: 0000000693
Autorzy: Cezary Rapiejko, Maciej Gazicki-Lipman, Leszek Klimek, Hieronim Szymanowski, Marcin Strojek.
Tytuł: RF plasma deposition of thin SixGeyCz: H films using a combination of organometallic source materials.
Czasopismo: Thin Solid Films 2004 Vol.469-470 nr spec. iss. s.173-177
forma: odb.
Lokalizacja dokumentu: Wł. Inst. Inż. Mater.
p-ISSN: 0040-6090

Uwagi wewnętrzne: DIG_000693
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 2
Kraj: CHE
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej
  Wyświetl ponownie stosując format:
Wyświetl/ukryj etykiety | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Nowe wyszukiwanie | Biblioteka PŁ