logo BPŁ logo PŁ

Bibliografia Dorobku Piśmienniczego Pracowników Politechniki Łódzkiej od 2004



Zapytanie: RIBKA RAISA
Liczba odnalezionych rekordów: 1



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetl/ukryj etykiety | Wersja do druku | | | Nowe wyszukiwanie
1/1
Nr opisu: 0000042592
Autorzy: Svitlana Havenko, Lubomir Sikora, Raisa Ribka.
Typ patentu: Patent
Kraj opatentowania: Ukraina
Numer patentu: 83226
Międzynarodowa klasyfikacja patentowa Int Cl./sup: MPK G01B 21/12 (2006.01)MPK G01B 21/30 (2006.01)
Tytuł patentu: Pristrij dla ocinuvanna akosti drukovanih zobrazen'.
Właściciel, kraj: Ukrains'ka Akademia Drukarstva. Ukraina
Data opublikowania: Opubl. 27.08.2013
Uwagi wewnętrzne: DIG_042592
Zasięg publikacji/pracy: K
Półrocze: 1
Kraj: UKR
Język: ukr
  Wyświetl ponownie stosując format:
Wyświetl/ukryj etykiety | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Nowe wyszukiwanie | Biblioteka PŁ