logo BPŁ logo PŁ

Bibliografia Dorobku Piśmienniczego Pracowników Politechniki Łódzkiej od 2004




Zapytanie: KREPYCH SVITLANA
Liczba odnalezionych rekordów: 1



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetl/ukryj etykiety | Wersja do druku | | | Nowe wyszukiwanie
1/1
Nr opisu: 0000041292
Autorzy: Svitlana Krepych, Petro Stakhiv, Iryna Spivak.
Tytuł: Analysis of the tolerance area parameters REC based on technological area scattering.
Cytata wydawnicza: CADSM 2013. 12th International Conference. The Experience of Designing and Application of CAD Systems in Microelectronics.
Adres wydawniczy: Lviv, 2013
Szczegóły: s.179-180
Lokalizacja dokumentu: Wł. Kat. Mikroelektron. i Tech. Inform.
Uwagi wewnętrzne: DIG_041292. IEEE. Compendex. Petro Stakhiv występuje z afiliacją inną niż PŁ - Lviv Polytechnic National University.
Zasięg publikacji/pracy: M
Kraj: USA
Kod współpracy międzynarodowej: UKR
Język: eng
Adres url:
  Wyświetl ponownie stosując format:
Wyświetl/ukryj etykiety | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Nowe wyszukiwanie | Biblioteka PŁ