logo BPŁ logo PŁ

Bibliografia Dorobku Piśmienniczego Pracowników Politechniki Łódzkiej od 2004




Zapytanie: AUGULIS L
Liczba odnalezionych rekordów: 2



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetl/ukryj etykiety | Wersja do druku | | | Nowe wyszukiwanie
1/2
Nr opisu: 0000003638
Autorzy: Arnoldas Uzupis, Krzysztof Gubiec, Jacek Tyczkowski, L. Augulis, Sigitas Tamulevicius.
Tytuł: Evolution of residual stress in (GeXOY:H) thin films deposited by plasma-assisted chemical vapor deposition.
Cytata wydawnicza: Chemia Plazmy 2004. VIII Ogólnopolskie Sympozjum Chemii Plazmy. Zbiór streszczeń.
Adres wydawniczy: Łódź, 2004
Szczegóły: s.84
Lokalizacja dokumentu: 97364
Półrocze: 1
Kraj: POL
Kod współpracy międzynarodowej: LTU
Język: eng
2/2
Nr opisu: 0000003639
Autorzy: Arnoldas Uzupis, Krzysztof Gubiec, L. Augulis, B. Vengalis, V. Lisauskas.
Tytuł: Physical properties of ITO thin films prepared by DC sputtering.
Cytata wydawnicza: Chemia Plazmy 2004. VIII Ogólnopolskie Sympozjum Chemii Plazmy. Zbiór streszczeń.
Adres wydawniczy: Łódź, 2004
Szczegóły: s.85
Lokalizacja dokumentu: 97364
Półrocze: 1
Kraj: POL
Kod współpracy międzynarodowej: LTU
Język: eng
  Wyświetl ponownie stosując format:
Wyświetl/ukryj etykiety | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Nowe wyszukiwanie | Biblioteka PŁ