logo BPŁ logo PŁ

Bibliografia Dorobku Piśmienniczego Pracowników Politechniki Łódzkiej od 2004




Zapytanie: UZUPIS ARNOLDAS
Liczba odnalezionych rekordów: 6



Przejście do opcji zmiany formatu | Wyświetl/ukryj etykiety | Wersja do druku | | | Nowe wyszukiwanie
1/6
Nr opisu: 0000022785
Autorzy: Arnoldas Uzupis, Jacek Tyczkowski, Konrad Gubiec, Sigitas Tamulevicius, Mindaugas Andrulevicius, Mindaugas Puceta.
Tytuł: Properties of GexOy:H thin films produced by plasma-assisted chemical vapor deposition.
Czasopismo: Medziagotyra 2009 Vol.15 nr 1 s.7-10
forma: odb.
Lokalizacja dokumentu: Wł. Kat. Termodyn. Proces.
p-ISSN: 1392-1320

Uwagi wewnętrzne: DIG_022785
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 2
Kraj: LTU
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej, wskaźnik Impact Factor ISI: 0.299
2/6
Nr opisu: 0000007035
Autorzy: Jacek Tyczkowski, Piotr Kazimierski, Krzysztof Gubiec, Marcin Kozanecki, Arnoldas Uzupis.
Tytuł: Growth and characterization of germanium oxide films fabricated by plasma - assisted chemical vapor deposition.
Cytata wydawnicza: Plasma polymers and related materials. COST action 527.
Adres wydawniczy: Ankara, 2005
Szczegóły: s.91-95
forma: odb.
Lokalizacja dokumentu: Wł. Kat. Termodyn. Proces.
Uwagi wewnętrzne: DIG_007035
Półrocze: 2
Kraj: TUR
Kod współpracy międzynarodowej: LTU
Język: eng
3/6
Nr opisu: 0000007018
Autorzy: Krzysztof Gubiec, Arnoldas Uzupis, Jacek Tyczkowski.
Tytuł: Germanium oxide thin films fabricated by plasma-assisted chemical vapor deposition.
Czasopismo: Pol. J. Appl. Chem. 2005 Vol.49 nr 1-2 s.33-39
forma: odb.
Lokalizacja dokumentu: Wł. Kat. Termod. Proces.
p-ISSN: 0867-8928

Uwagi wewnętrzne: DIG_007018
Zasięg czasopisma: K
Półrocze: 1
Kraj: POL
Kod współpracy międzynarodowej: LTU
Język: eng
4/6
Nr opisu: 0000003638
Autorzy: Arnoldas Uzupis, Krzysztof Gubiec, Jacek Tyczkowski, L. Augulis, Sigitas Tamulevicius.
Tytuł: Evolution of residual stress in (GeXOY:H) thin films deposited by plasma-assisted chemical vapor deposition.
Cytata wydawnicza: Chemia Plazmy 2004. VIII Ogólnopolskie Sympozjum Chemii Plazmy. Zbiór streszczeń.
Adres wydawniczy: Łódź, 2004
Szczegóły: s.84
Lokalizacja dokumentu: 97364
Półrocze: 1
Kraj: POL
Kod współpracy międzynarodowej: LTU
Język: eng
5/6
Nr opisu: 0000003639
Autorzy: Arnoldas Uzupis, Krzysztof Gubiec, L. Augulis, B. Vengalis, V. Lisauskas.
Tytuł: Physical properties of ITO thin films prepared by DC sputtering.
Cytata wydawnicza: Chemia Plazmy 2004. VIII Ogólnopolskie Sympozjum Chemii Plazmy. Zbiór streszczeń.
Adres wydawniczy: Łódź, 2004
Szczegóły: s.85
Lokalizacja dokumentu: 97364
Półrocze: 1
Kraj: POL
Kod współpracy międzynarodowej: LTU
Język: eng
6/6
Nr opisu: 0000003637
Autorzy: Krzysztof Gubiec, Arnoldas Uzupis, Jacek Tyczkowski.
Tytuł: Właściwości elektryczne amorficznych warstw tlenogermanowych wytwarzanych w procesie nakładania plazmowego (PCVD).
Cytata wydawnicza: Chemia Plazmy 2004. VIII Ogólnopolskie Sympozjum Chemii Plazmy. Zbiór streszczeń.
Adres wydawniczy: Łódź, 2004
Szczegóły: s.60
Lokalizacja dokumentu: 97364
Półrocze: 1
Kraj: POL
Kod współpracy międzynarodowej: LTU
Język: pol
  Wyświetl ponownie stosując format:
Wyświetl/ukryj etykiety | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Nowe wyszukiwanie | Biblioteka PŁ