Bibliografia Dorobku Piśmienniczego Pracowników Politechniki Łódzkiej od 2004

1/3
Nr opisu: 0000009054
Autorzy: I. Błaszczyk-Łężak, Aleksander M. Wróbel, Dariusz Bieliński.
Tytuł: Remote hydrogen microwave plasma chemical vapor deposition of silicon carbonitride films from a (dimethylamino)dimethylsilane precursor: Compositional and structural dependencies of film properties.
Czasopismo: Diamond and Related Materials 2006 Vol.15 nr 10 s.1650-1658
p-ISSN: 0925-9635
Uwagi wewnętrzne: DIG_009054. Science Direct. EBSCO. Scopus.
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 2
Kraj: NLD
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej
2/3
Nr opisu: 0000006210
Autorzy: I. Błaszczyk-Łężak, A.M. Wróbel, Dariusz Bieliński.
Tytuł: Remote nitrogen microwave plasma chemical vapor deposition from a tetramethyldisilazane precursor. 2. Properties of deposited silicon carbonitride films.
Czasopismo: Thin Solid Films 2006 Vol.497 nr 1-2 s.35-41
p-ISSN: 0040-6090
Uwagi wewnętrzne: DIG_006210. Science Direct. EBSCO. Scopus.
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 1
Kraj: CHE
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej
3/3
Nr opisu: 0000002865
Autorzy: Aleksander Wróbel, I. Błaszczyk-Łężak, A. Walkiewicz-Pietrzykowska, Dariusz Bieliński, T. Aoki, Y. Hatanaka.
Tytuł: Silicon carbonitride films by remote hydrogen-nitrogen plasma CVD from a tetramethyldisilazane source.
Czasopismo: J. Electrochem. Soc. 2004 Vol.151 nr 11 s.C723-C730
forma: odb.
Lokalizacja dokumentu: Wł. Inst. Technol. Polim. i Barw.
p-ISSN: 0013-4651
Uwagi wewnętrzne: DIG_002865
Zasięg czasopisma: M
Półrocze: 2
Kraj: USA
Kod współpracy międzynarodowej: JPN
Język: eng
Czasopismo umieszczone na Liście Filadelfijskiej
Wyświetl ponownie stosując format:

Wyświetl/ukryj etykiety | Wyświetlenie wyników w wersji do druku | Pobranie pliku do edytora | Nowe wyszukiwanie | Biblioteka PŁ